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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年1月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-535090 | 表面の親水性を高めるための水蒸気プラズマ | 2024年 9月26日 | |
特表 2024-535091 | イマースドアンテナ源におけるRF窓のためのアクティブ温度制御 | 2024年 9月26日 | |
特開 2024-127896 | PVDスパッタチャンバ向けのバイアス可能なフラックスオプティマイザ/コリメータ | 2024年 9月20日 | |
特表 2024-534361 | 高周波プラズマ処理チャンバ内の歪み電流の緩和 | 2024年 9月20日 | |
特表 2024-534583 | 基板を処理するための方法および装置 | 2024年 9月20日 | |
特開 2024-125302 | 薄膜トランジスタ | 2024年 9月18日 | |
特表 2024-533986 | 導波管コンバイナおよびメタ表面のための全視野計測ツール | 2024年 9月18日 | |
特表 2024-534019 | オンウエハ次元低減 | 2024年 9月18日 | |
特表 2024-534082 | 3次元ダイナミックランダムアクセスメモリのための半導体分離ブリッジ | 2024年 9月18日 | |
特表 2024-534134 | 基板の熱処理を補正するためのシステム、方法及び装置 | 2024年 9月18日 | |
特表 2024-534243 | 処理チャンバ用の加熱リッド | 2024年 9月18日 | |
特表 2024-533016 | 内部ウエハ移送能力を用いて処理空間に対してチャンバ空間を隔離する方法 | 2024年 9月12日 | |
特表 2024-533064 | 複数のトランジスタソースへの自己整合型の幅広裏側電力レールコンタクト | 2024年 9月12日 | |
特表 2024-533168 | 物理的気相堆積(PVD)チャンバ用のシャッタディスク | 2024年 9月12日 | |
特表 2024-533219 | チャンバ制御のオートチューニング及び処理パフォーマンス評価のための方法 | 2024年 9月12日 |
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2024-535090 2024-535091 2024-127896 2024-534361 2024-534583 2024-125302 2024-533986 2024-534019 2024-534082 2024-534134 2024-534243 2024-533016 2024-533064 2024-533168 2024-533219
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1月24日(金) - 東京 港区
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月24日(金) -
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月24日(金) - 大阪 大阪市
1月24日(金) - 神奈川 川崎市
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月24日(金) - 東京 港区
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1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) - 大阪 大阪市
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 品川区
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) - 東京 港区
1月31日(金) -
1月27日(月) - 東京 港区
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