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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2024年 出願公開件数ランキング    第41位 605件 下降2023年:第32位 708件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第47位 555件 上昇2023年:第80位 398件)

(ランキング更新日:2025年1月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2024-535090 表面の親水性を高めるための水蒸気プラズマ 2024年 9月26日
特表 2024-535091 イマースドアンテナ源におけるRF窓のためのアクティブ温度制御 2024年 9月26日
特開 2024-127896 PVDスパッタチャンバ向けのバイアス可能なフラックスオプティマイザ/コリメータ 2024年 9月20日
特表 2024-534361 高周波プラズマ処理チャンバ内の歪み電流の緩和 2024年 9月20日
特表 2024-534583 基板を処理するための方法および装置 2024年 9月20日
特開 2024-125302 薄膜トランジスタ 2024年 9月18日
特表 2024-533986 導波管コンバイナおよびメタ表面のための全視野計測ツール 2024年 9月18日
特表 2024-534019 オンウエハ次元低減 2024年 9月18日
特表 2024-534082 3次元ダイナミックランダムアクセスメモリのための半導体分離ブリッジ 2024年 9月18日
特表 2024-534134 基板の熱処理を補正するためのシステム、方法及び装置 2024年 9月18日
特表 2024-534243 処理チャンバ用の加熱リッド 2024年 9月18日
特表 2024-533016 内部ウエハ移送能力を用いて処理空間に対してチャンバ空間を隔離する方法 2024年 9月12日
特表 2024-533064 複数のトランジスタソースへの自己整合型の幅広裏側電力レールコンタクト 2024年 9月12日
特表 2024-533168 物理的気相堆積(PVD)チャンバ用のシャッタディスク 2024年 9月12日
特表 2024-533219 チャンバ制御のオートチューニング及び処理パフォーマンス評価のための方法 2024年 9月12日

606 件中 151-165 件を表示

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2024-535090 2024-535091 2024-127896 2024-534361 2024-534583 2024-125302 2024-533986 2024-534019 2024-534082 2024-534134 2024-534243 2024-533016 2024-533064 2024-533168 2024-533219

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