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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年1月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-536098 | イオンブロッカプレートを用いたプラズマ生成のための方法及び装置 | 2024年10月 4日 | |
特表 2024-536314 | マイクロ波プラズマを用いた窒化ケイ素の低温選択エッチング | 2024年10月 4日 | |
特表 2024-536376 | 低抵抗率のタングステン特徴を形成するための方法 | 2024年10月 4日 | |
特表 2024-536535 | 基板処理チャンバにおける温度制御のための装置 | 2024年10月 4日 | |
特表 2024-536537 | キャビティ特性モニタリングを有するメガソニック洗浄 | 2024年10月 4日 | |
特開 2024-133454 | ドープされたALD窒化タンタルにおける不純物の除去 | 2024年10月 2日 | |
特開 2024-133456 | パターニングされた金属酸化物フォトレジストの線量減少 | 2024年10月 2日 | |
特開 2024-133460 | 薄型膜処理プロセス | 2024年10月 2日 | |
特開 2024-133461 | 深さが変化する屈折率膜の堆積のための方法 | 2024年10月 2日 | |
特開 2024-133468 | DRAMのワード線におけるゲート誘起ドレインリークを低減させること | 2024年10月 2日 | |
特開 2024-133592 | 基板処理システムキャリア | 2024年10月 2日 | |
特開 2024-133686 | イオンエネルギー分布関数(IEDF)の生成 | 2024年10月 2日 | |
特表 2024-535771 | エネルギー分散型X線分光法ラインスキャン分析からの元素マップ情報を使用したプロセスモデルの作成 | 2024年10月 2日 | |
特表 2024-535817 | プラズマ抑制のためのガス流ガイド設計 | 2024年10月 2日 | |
特表 2024-535829 | 内部支持構造を含む強化されたRF LINACコイルインダクタ | 2024年10月 2日 |
606 件中 121-135 件を表示
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2024-536098 2024-536314 2024-536376 2024-536535 2024-536537 2024-133454 2024-133456 2024-133460 2024-133461 2024-133468 2024-133592 2024-133686 2024-535771 2024-535817 2024-535829
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1月8日(水) -
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1月11日(土) -
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1月8日(水) -
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1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
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1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
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1月14日(火) - 東京 港区
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