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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-533220 | 計測スロットプレート | 2024年 9月12日 | |
特表 2024-533363 | 指向性選択的堆積 | 2024年 9月12日 | |
特表 2024-533490 | PVDにおける不均一性を低下させるための頂部マグネット | 2024年 9月12日 | |
特開 2024-122961 | 電子機器製造システムのためのチャンバの遠隔プラズマ洗浄 | 2024年 9月10日 | |
特開 2024-122990 | 傾斜回折格子のローリングKベクトルの調整 | 2024年 9月10日 | |
特開 2024-123091 | 水平回転運動でのビーム移動によるスポット加熱 | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532656 | 多層コーティングを有する半導体チャンバ部品 | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532821 | ビームラインイオン注入装置のための高速ビーム較正手順 | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532878 | 堆積欠陥を制御するための処理 | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532910 | エッジアーク緩和のための交換可能な静電チャック外側リング | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532934 | 多層極端紫外線リフレクタ | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532936 | 可変厚さイオン源抽出プレート | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532937 | 抽出イオンビームの均一性を制御するための装置 | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532942 | 均一なプラズマ線形イオン源 | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532193 | 均一性調整を含む多相回転クロスフローを備えたプラズマチャンバ | 2024年 9月 5日 |
606 件中 166-180 件を表示
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2024-533220 2024-533363 2024-533490 2024-122961 2024-122990 2024-123091 2024-532656 2024-532821 2024-532878 2024-532910 2024-532934 2024-532936 2024-532937 2024-532942 2024-532193
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1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月9日(木) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
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