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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2024年 出願公開件数ランキング    第41位 605件 下降2023年:第32位 708件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第47位 555件 上昇2023年:第80位 398件)

(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2024-533220 計測スロットプレート 2024年 9月12日
特表 2024-533363 指向性選択的堆積 2024年 9月12日
特表 2024-533490 PVDにおける不均一性を低下させるための頂部マグネット 2024年 9月12日
特開 2024-122961 電子機器製造システムのためのチャンバの遠隔プラズマ洗浄 2024年 9月10日
特開 2024-122990 傾斜回折格子のローリングKベクトルの調整 2024年 9月10日
特開 2024-123091 水平回転運動でのビーム移動によるスポット加熱 2024年 9月10日
特表 2024-532656 多層コーティングを有する半導体チャンバ部品 2024年 9月10日
特表 2024-532821 ビームラインイオン注入装置のための高速ビーム較正手順 2024年 9月10日
特表 2024-532878 堆積欠陥を制御するための処理 2024年 9月10日
特表 2024-532910 エッジアーク緩和のための交換可能な静電チャック外側リング 2024年 9月10日
特表 2024-532934 多層極端紫外線リフレクタ 2024年 9月10日
特表 2024-532936 可変厚さイオン源抽出プレート 2024年 9月10日
特表 2024-532937 抽出イオンビームの均一性を制御するための装置 2024年 9月10日
特表 2024-532942 均一なプラズマ線形イオン源 2024年 9月10日
特表 2024-532193 均一性調整を含む多相回転クロスフローを備えたプラズマチャンバ 2024年 9月 5日

606 件中 166-180 件を表示

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2024-533220 2024-533363 2024-533490 2024-122961 2024-122990 2024-123091 2024-532656 2024-532821 2024-532878 2024-532910 2024-532934 2024-532936 2024-532937 2024-532942 2024-532193

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