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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
（
2023年：第32位 708件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
（
2023年：第80位 398件）
（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-531244 | ＲＴＰ温度制御システムのための高温測定誤差検出センサ | 2024年 8月29日 | |
| 特表 2024-531673 | 半導体デバイスパッケージ用の補剛フレーム | 2024年 8月29日 | |
| 特開 2024-116118 | シャッターディスク | 2024年 8月27日 | |
| 特開 2024-116282 | 原子層堆積法で堆積させた耐浸食性金属フッ化物コーティング | 2024年 8月27日 | |
| 特表 2024-530977 | 多層極端紫外線反射材料 | 2024年 8月27日 | |
| 特表 2024-530621 | 誘導結合されたプラズマ源を備えたリアクタ | 2024年 8月23日 | |
| 特表 2024-530636 | 底部誘電体を有するナノシートのソースドレイン形成のためのテンプレート | 2024年 8月23日 | |
| 特表 2024-530712 | 分子層堆積法による選択的パターニング | 2024年 8月23日 | |
| 特開 2024-112845 | モジュール型の高周波源 | 2024年 8月21日 | |
| 特開 2024-112851 | 基板を処理するための方法及び装置 | 2024年 8月21日 | |
| 特開 2024-112933 | 乗数モードを用いる高周波（ＲＦ）パルスインピーダンス同調 | 2024年 8月21日 | |
| 特開 2024-113062 | 原子層堆積法で堆積させた耐浸食性金属酸化物コーティング | 2024年 8月21日 | |
| 特表 2024-530167 | ３Ｄドラムのための選択的ケイ素化合物堆積 | 2024年 8月16日 | |
| 特開 2024-109643 | ランプの検査装置および検査方法 | 2024年 8月14日 | |
| 特表 2024-529815 | 基板移送システムおよびその使用方法 | 2024年 8月14日 |
606 件中 196-210 件を表示
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2024-531244 2024-531673 2024-116118 2024-116282 2024-530977 2024-530621 2024-530636 2024-530712 2024-112845 2024-112851 2024-112933 2024-113062 2024-530167 2024-109643 2024-529815
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