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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
（
2023年：第32位 708件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
（
2023年：第80位 398件）
（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-532226 | クランプ式デュアルチャネルシャワーヘッド | 2024年 9月 5日 | |
| 特表 2024-532269 | ゲートオールアラウンドトランジスタにおけるソースドレイン形成 | 2024年 9月 5日 | |
| 特表 2024-532377 | 半導体製造装置の適応トラブルシューティングのためのシステムおよび方法 | 2024年 9月 5日 | |
| 特表 2024-532483 | スカンジウムドープ窒化アルミニウムの選択的エッチング | 2024年 9月 5日 | |
| 特開 2024-119793 | パルス化学気相堆積による金属酸化物の選択的堆積 | 2024年 9月 3日 | |
| 特開 2024-119851 | 裏側の基板接触を減少させる基板移送機構 | 2024年 9月 3日 | |
| 特開 2024-119873 | デジタルリソグラフィ用の画像安定化 | 2024年 9月 3日 | |
| 特表 2024-531916 | ３次元メモリのための選択ゲート構造及び製造方法 | 2024年 9月 3日 | |
| 特表 2024-531928 | 底部誘電体絶縁層を形成する方法 | 2024年 9月 3日 | |
| 特表 2024-531968 | 分子層堆積法による３Ｄ ＮＡＮＤ用のコンタクトランディング保護 | 2024年 9月 3日 | |
| 特表 2024-531969 | ３Ｄ ＮＡＮＤ用の分子層堆積ライナー | 2024年 9月 3日 | |
| 特開 2024-117768 | 機械学習に基づく基板画像処理からの膜厚推定 | 2024年 8月29日 | |
| 特表 2024-531124 | 紫外線とオゾンによる洗浄システム | 2024年 8月29日 | |
| 特表 2024-531190 | 有効表面積での蒸発のための蒸発器 | 2024年 8月29日 | |
| 特表 2024-531239 | ＣＭＰスラリ凝集低減のためのユースポイント超音波ホモジナイザ | 2024年 8月29日 |
606 件中 181-195 件を表示
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2024-532226 2024-532269 2024-532377 2024-532483 2024-119793 2024-119851 2024-119873 2024-531916 2024-531928 2024-531968 2024-531969 2024-117768 2024-531124 2024-531190 2024-531239
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