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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年1月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-133059 | バックエンドオブライン用途のためのルテニウムライナおよびキャップ | 2024年10月 1日 | |
特表 2024-535176 | 保守性向上を図った前洗浄チャンバアセンブリアーキテクチャ | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535232 | 金属配線における拡散層 | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535234 | ディフューザーの片面陽極酸化処理 | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535266 | インシトゥ光リフレクトメトリを使用する透過補正プラズマ発光 | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535369 | 選択的グラフェン堆積 | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535390 | 3次元メモリデバイスおよびその製造方法 | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535474 | 両面PVDスパッタリングのための真空中での基板反転 | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-534749 | 高アスペクト比特徴における金属の堆積およびエッチング | 2024年 9月26日 | |
特表 2024-534826 | リアクタインターフェースに嵌合された弾性物体を使用したプロセスガスの格納 | 2024年 9月26日 | |
特表 2024-534827 | リアクタフレームに嵌合された弾性物体を使用したプロセスガスの格納 | 2024年 9月26日 | |
特表 2024-534829 | ウエハを超薄型化する方法 | 2024年 9月26日 | |
特表 2024-534830 | 深いビアへの裏側電力レール | 2024年 9月26日 | |
特表 2024-534993 | プラズマ中のイオンエネルギー分布をデジタル制御するための方法及び装置 | 2024年 9月26日 | |
特表 2024-534994 | 原子層堆積部品コーティング用チャンバ | 2024年 9月26日 |
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2024-133059 2024-535176 2024-535232 2024-535234 2024-535266 2024-535369 2024-535390 2024-535474 2024-534749 2024-534826 2024-534827 2024-534829 2024-534830 2024-534993 2024-534994
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1月8日(水) -
1月8日(水) -
1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月8日(水) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
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1月14日(火) - 東京 港区
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