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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
（
2023年：第32位 708件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
（
2023年：第80位 398件）
（ランキング更新日：2025年1月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-519841 | 端面不均一性チューニングのための低インピーダンス電流経路 | 2024年 5月21日 | |
| 特表 2024-519890 | 改善されたプロセス均一性のための基板ハロー配置 | 2024年 5月21日 | |
| 特表 2024-519911 | Ｌｉイオン電池用合金アノードの高体積生産 | 2024年 5月21日 | |
| 特表 2024-519912 | 双極子領域を有するＶ－ＮＡＮＤスタック | 2024年 5月21日 | |
| 特表 2024-519959 | 高温洗浄処理 | 2024年 5月21日 | |
| 特表 2024-520039 | 金属ドープされたカーボンハードマスク | 2024年 5月21日 | |
| 特表 2024-519467 | 半導体処理に関する応力およびオーバーレイ管理 | 2024年 5月14日 | |
| 特開 2024-63001 | 炭素含有量が調整可能な炭窒化ケイ素間隙充填 | 2024年 5月10日 | |
| 特表 2024-519346 | 基板処理チャンバのための磁気結合ＲＦフィルタ | 2024年 5月10日 | |
| 特表 2024-519207 | 高アスペクト比特徴における金属エッチング | 2024年 5月 9日 | |
| 特表 2024-519209 | フレキシブル基板を搬送するためのローラ、真空処理装置及びそれらの方法 | 2024年 5月 9日 | |
| 特表 2024-519210 | フレキシブル基板を搬送するためのローラ、真空処理装置及びそれらの方法 | 2024年 5月 9日 | |
| 特表 2024-519211 | ハロゲンサイクルの能動的管理によるカソードおよびリペラの寿命の延長 | 2024年 5月 9日 | |
| 特表 2024-518921 | 放射線曝露後の基板を処理するチャンバおよび方法 | 2024年 5月 8日 | |
| 特表 2024-518965 | 低質量基板支持体 | 2024年 5月 8日 |
606 件中 361-375 件を表示
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2024-519841 2024-519890 2024-519911 2024-519912 2024-519959 2024-520039 2024-519467 2024-63001 2024-519346 2024-519207 2024-519209 2024-519210 2024-519211 2024-518921 2024-518965
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