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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年1月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-523617 | CCPプラズマまたはRPS洗浄によるSINの洗浄 | 2024年 6月28日 | |
特表 2024-523698 | 再帰的ガスチャネルを有するシャワーヘッドアセンブリ | 2024年 6月28日 | |
特表 2024-523052 | 両口金形ランプを用いた軸対称加熱アセンブリレイアウト | 2024年 6月26日 | |
特表 2024-522434 | 基板処理用のコーティングされた基板支持体アセンブリ | 2024年 6月21日 | |
特表 2024-522493 | パッド摩耗のモデリング及び制御方法 | 2024年 6月21日 | |
特表 2024-522506 | ウエハの可変相対速度による非対称性補正 | 2024年 6月21日 | |
特表 2024-522933 | 厚さ補正のためのメサ高さ調整 | 2024年 6月21日 | |
特表 2024-522394 | 金属フィーチャーの原子層エッチング | 2024年 6月19日 | |
特開 2024-81652 | 回転パドルを有する固定チャンバ内で粒子をコーティングするためのリアクタ | 2024年 6月18日 | |
特開 2024-81653 | パルス状電圧波形を制御するためのフィードバックループ | 2024年 6月18日 | |
特開 2024-81654 | 空間分離を伴う単一ウエハの処理環境 | 2024年 6月18日 | |
特表 2024-522375 | 高ピクセル密度構造及びその製造方法 | 2024年 6月18日 | |
特表 2024-522091 | イオンエネルギー制御を伴うプラズマ励起 | 2024年 6月11日 | |
特表 2024-522107 | ニューラルネットワーク中の動的活性化スパーシティ | 2024年 6月11日 | |
特表 2024-522214 | デジタルリソグラフィ露光ユニット境界平滑化 | 2024年 6月11日 |
606 件中 316-330 件を表示
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2024-523617 2024-523698 2024-523052 2024-522434 2024-522493 2024-522506 2024-522933 2024-522394 2024-81652 2024-81653 2024-81654 2024-522375 2024-522091 2024-522107 2024-522214
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1月27日(月) - 東京 港区
1月28日(火) - 東京 港区
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) - 大阪 大阪市
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 品川区
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) - 東京 港区
1月31日(金) -
1月27日(月) - 東京 港区
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
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2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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