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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第628位 47件 (2022年:第561位 54件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第631位 40件 (2022年:第709位 35件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7316300 | 投影リソグラフィシステムのための瞳ファセットミラー、照明光学部品、および光学システム | 2023年 7月27日 | |
特許 7312264 | 動作環境における反射フォトリソグラフィマスクのパターン要素の配置を決定するためのデバイスおよびその方法 | 2023年 7月20日 | |
特許 7306805 | フォトリソグラフィマスクを検査する方法及び方法を実行するためのマスク計測装置 | 2023年 7月11日 | |
特許 7305353 | リソグラフィ装置の光学素子の位置測定 | 2023年 7月10日 | |
特許 7300998 | 物体、ウェハ、及びマスクブランクの表面上の粒子を検出する方法 | 2023年 6月30日 | |
特許 7296412 | 光学系及び光学系を用いてマスク欠陥を補正する方法 | 2023年 6月22日 | |
特許 7296439 | 微細構造化部品のマイクロリソグラフィ製造のための方法 | 2023年 6月22日 | |
特許 7288896 | ウェハ保持デバイス及び投影マイクロリソグラフィシステム(projection microlithography system) | 2023年 6月 8日 | |
特許 7288447 | コンポーネント調整を改良した半導体リソグラフィ用の投影露光装置及び調整方法 | 2023年 6月 7日 | |
特許 7288046 | 光学素子の支持 | 2023年 6月 6日 | |
特許 7284766 | EUVマイクロリソグラフィ用の結像光学ユニット | 2023年 5月31日 | |
特許 7284781 | EUV放射線源、EUV放射線源のためのインサート、および、EUV放射線源のためのインサートのためのインサート | 2023年 5月31日 | |
特許 7280889 | マスクを検査するための方法およびデバイス | 2023年 5月24日 | |
特許 7275035 | 反射屈折レンズと、そのようなレンズを含む光学システム | 2023年 5月17日 | |
特許 7275198 | マイクロリソグラフィマスクを特徴付けるための装置および方法 | 2023年 5月17日 |
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7316300 7312264 7306805 7305353 7300998 7296412 7296439 7288896 7288447 7288046 7284766 7284781 7280889 7275035 7275198
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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