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東京エレクトロン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 801件
（2023年：第32位 760件）
（ランキング更新日：2026年10月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-174634 | 基板処理システム及び処理容器クリーニング方法 | 2024年12月17日 | |
| 特開 2024-173956 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2024年12月13日 | |
| 特開 2024-171712 | 基板処理方法、および基板処理装置 | 2024年12月12日 | |
| 特開 2024-171566 | 基板処理装置、および基板処理方法 | 2024年12月12日 | |
| 特開 2024-171689 | 基板処理方法、および基板処理装置 | 2024年12月12日 | |
| 特開 2024-172523 | シャワーヘッド、基板処理装置および基板処理方法 | 2024年12月12日 | |
| 特開 2024-172600 | 検査装置、および検査方法 | 2024年12月12日 | |
| 特開 2024-172541 | 基板処理システム及び表示方法 | 2024年12月12日 | |
| 特開 2024-172963 | 形状特性値推定装置、形状特性値推定方法、及び記憶媒体 | 2024年12月12日 | |
| 特開 2024-173687 | 現像装置、基板処理システム及び現像方法 | 2024年12月12日 | |
| 特開 2024-170984 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年12月11日 | |
| 特開 2024-170630 | 基板処理方法、記憶媒体、及び基板処理装置 | 2024年12月10日 | |
| 特開 2024-170532 | 基板処理システム | 2024年12月10日 | |
| 特表 2024-545648 | 高度なパルス制御を用いるリモートソースパルシング | 2024年12月10日 | |
| 特開 2024-170071 | 検査装置、およびパラメータ設定方法 | 2024年12月 6日 |
730 件中 16-30 件を表示
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2024-174634 2024-173956 2024-171712 2024-171566 2024-171689 2024-172523 2024-172600 2024-172541 2024-172963 2024-173687 2024-170984 2024-170630 2024-170532 2024-545648 2024-170071
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