特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第27位　725件（2023年：第31位　722件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第25位　802件（2023年：第32位　762件）

（ランキング更新日：2025年1月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7534249	プラズマ処理システム及び環状部材の取り付け方法	2024年 8月14日
特許 7531981	領域選択的堆積における横方向のフィルム成長を緩和するための方法	2024年 8月13日
特許 7531288	バルブ装置	2024年 8月 9日
特許 7531349	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2024年 8月 9日
特許 7531351	基板処理方法、基板処理装置、および基板処理システム	2024年 8月 9日
特許 7531460	プラズマ処理装置	2024年 8月 9日
特許 7531641	載置台及び基板処理装置	2024年 8月 9日
特許 7531680	カソードユニットおよび成膜装置	2024年 8月 9日
特許 7530779	実行装置及び実行方法	2024年 8月 8日
特許 7530807	プラズマ処理装置、プラズマ処理システム及びエッジリングの位置合わせ方法	2024年 8月 8日
特許 7530824	膜厚推定方法、記憶媒体、及び膜厚推定装置	2024年 8月 8日
特許 7530845	誘導結合プラズマ励起用アンテナ、誘導結合プラズマ励起用アンテナユニット及びプラズマ処理装置	2024年 8月 8日
特許 7530846	基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2024年 8月 8日
特許 7530861	処理液供給装置、液体置換方法、および記憶媒体	2024年 8月 8日
特許 7530954	基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2024年 8月 8日

809 件中 316-330 件を表示

... 22

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7534249 7531981 7531288 7531349 7531351 7531460 7531641 7531680 7530779 7530807 7530824 7530845 7530846 7530861 7530954

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数