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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7535920 | 処理液吐出量の測定用容器及び処理液吐出量の測定方法 | 2024年 8月19日 | |
特許 7535932 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 8月19日 | |
特許 7535933 | 現像方法及び基板処理システム | 2024年 8月19日 | |
特許 7535408 | エッチング方法及びプラズマ処理システム | 2024年 8月16日 | |
特許 7535424 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2024年 8月16日 | |
特許 7535435 | 検査装置及びプローブの研磨方法 | 2024年 8月16日 | |
特許 7535438 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2024年 8月16日 | |
特許 7534044 | スパッタ装置及び成膜方法 | 2024年 8月14日 | |
特許 7534046 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2024年 8月14日 | |
特許 7534047 | 検査装置の制御方法及び検査装置 | 2024年 8月14日 | |
特許 7534048 | プラズマ処理システム及びプラズマ処理方法 | 2024年 8月14日 | |
特許 7534049 | 保持部材、上部電極アセンブリ、及びプラズマ処理装置 | 2024年 8月14日 | |
特許 7534052 | プラズマ処理装置及び部品 | 2024年 8月14日 | |
特許 7534054 | 3Dトランジスタデバイスのためのディフュージョンブレーク、ゲートカット、並びに独立したNゲート及びPゲートの同時形成のための装置及び方法 | 2024年 8月14日 | |
特許 7534235 | フィルタ回路及びプラズマ処理装置 | 2024年 8月14日 |
809 件中 301-315 件を表示
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7535920 7535932 7535933 7535408 7535424 7535435 7535438 7534044 7534046 7534047 7534048 7534049 7534052 7534054 7534235
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