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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第630位 43件 (2023年:第609位 49件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第431位 65件 (2023年:第509位 54件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-119099 | 検査装置の焦点位置調整方法及びパターン検査装置 | 2024年 9月 3日 | |
特開 2024-119373 | 情報収集基板、基板処理装置、電子ビーム描画装置および電子ビーム描画装置の基板処理方法 | 2024年 9月 3日 | |
特開 2024-102645 | 光軸制御機構、パターン検査装置、及び光軸調整方法 | 2024年 7月31日 | |
特開 2024-93914 | 検査装置及び検査画像の生成方法 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-89039 | 電子線マスク検査装置 | 2024年 7月 3日 | |
特開 2024-83066 | 位置計測装置、荷電粒子ビーム描画装置、及びマーク位置計測方法 | 2024年 6月20日 | |
特開 2024-80072 | ブランキングアパーチャアレイシステム及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2024年 6月13日 | |
特開 2024-80100 | ヒータ寿命予測方法、加熱処理装置およびヒータ寿命予測プログラム | 2024年 6月13日 | |
特開 2024-75811 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビームの測定方法 | 2024年 6月 5日 | |
特開 2024-75409 | 検査装置 | 2024年 6月 3日 | |
特開 2024-70592 | 電子線照射装置 | 2024年 5月23日 | |
特開 2024-70593 | 電子線照射装置 | 2024年 5月23日 | |
特開 2024-62183 | ビーム検出器、マルチ荷電粒子ビーム照射装置、及びビーム検出器の調整方法 | 2024年 5月 9日 | |
特開 2024-44000 | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法及び位相差板の調整方法 | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-44936 | マルチ電子ビームの調整方法及びマルチ電子ビーム検査装置 | 2024年 4月 2日 |
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2024-119099 2024-119373 2024-102645 2024-93914 2024-89039 2024-83066 2024-80072 2024-80100 2024-75811 2024-75409 2024-70592 2024-70593 2024-62183 2024-44000 2024-44936
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1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月9日(木) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
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