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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年1月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-528371 | 欠陥リスクを推定し、プロセスレシピを最適化するために、欠陥モデルを使用すること | 2024年 7月30日 | |
特表 2024-528372 | 特徴モデルを使用するプロセスレシピ作成およびマッチング | 2024年 7月30日 | |
特表 2024-528375 | 酸化を軽減する隔離された環境をともなう内部シャフト領域を有する基板支持アセンブリ | 2024年 7月30日 | |
特表 2024-528621 | イオンビーム形状適合のための調整可能なドメインを識別するための方法、媒体、およびシステム | 2024年 7月30日 | |
特表 2024-527765 | 化学機械研磨後のブラシ洗浄ボックス | 2024年 7月26日 | |
特表 2024-527889 | 基板支持体の反応性洗浄 | 2024年 7月26日 | |
特表 2024-527979 | タングステン(W)間隙充填のための強化された応力調整および界面接着 | 2024年 7月26日 | |
特表 2024-528076 | 調整可能な仕事関数を備えた一体型コンタクトシリサイド | 2024年 7月26日 | |
特表 2024-528264 | 最先端の基板パターニングにおけるエッチング抵抗の低減 | 2024年 7月26日 | |
特開 2024-99511 | 複数の角度方向加圧可能区域を有する研磨キャリアヘッド | 2024年 7月25日 | |
特開 2024-99512 | 希ガスによる極低温原子層エッチング | 2024年 7月25日 | |
特開 2024-99516 | 共有供給及び排気システムを備えたマルチ熱CVDチャンバ | 2024年 7月25日 | |
特開 2024-99523 | マルチゾーンガス分配システム及び方法 | 2024年 7月25日 | |
特表 2024-527564 | プロセスチャンバを非接触で特性評価するための方法および機構 | 2024年 7月25日 | |
特表 2024-527223 | 高品質選択的窒化ケイ素堆積のための一体化された方法およびツール | 2024年 7月24日 |
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2024-528371 2024-528372 2024-528375 2024-528621 2024-527765 2024-527889 2024-527979 2024-528076 2024-528264 2024-99511 2024-99512 2024-99516 2024-99523 2024-527564 2024-527223
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1月27日(月) - 東京 港区
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