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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第47位　555件（2023年：第80位　398件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-526208	遷移金属カルコゲニドの低温成長	2024年 7月17日
特表 2024-526209	半導体基板の上面及び底面への選択的炭素堆積	2024年 7月17日
特表 2024-526299	エッジプラズマ変調のための成形シャワーヘッド	2024年 7月17日
特開 2024-96120	選択的金属間隙充填のためのマルチステップ前洗浄	2024年 7月12日
特表 2024-525269	半導体デバイスのパッケージング方法	2024年 7月12日
特表 2024-525276	冗長性のあるファクトリインターフェース	2024年 7月12日
特表 2024-525278	処理システム内の圧力変化時における基板の汚染の防止	2024年 7月12日
特表 2024-525404	化学機械研磨（ＣＭＰ）中のスラリ削減のためのスプレーシステム	2024年 7月12日
特表 2024-525423	積極的な蒸気生成を伴う急速熱処理（ＲＴＰ）チャンバでの選択的酸化	2024年 7月12日
特表 2024-525450	プラズマ、温度、応力、または堆積の感知のためのＭＥＭＳ共振器センサ基板	2024年 7月12日
特表 2024-525530	化学機械研磨のための音響窓を含む研磨パッド	2024年 7月12日
特表 2024-525537	化学機械研磨のための音響センサの結合	2024年 7月12日
特表 2024-525565	化学機械研磨中の音響信号による平坦化の検出	2024年 7月12日
特表 2024-525763	半導体構造を形成する方法	2024年 7月12日
特表 2024-525764	金属酸化物指向性除去	2024年 7月12日

606 件中 271-285 件を表示

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2024-526208 2024-526209 2024-526299 2024-96120 2024-525269 2024-525276 2024-525278 2024-525404 2024-525423 2024-525450 2024-525530 2024-525537 2024-525565 2024-525763 2024-525764

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