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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2024年 出願公開件数ランキング    第41位 605件 下降2023年:第32位 708件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第47位 555件 上昇2023年:第80位 398件)

(ランキング更新日:2025年1月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2024-527349 RFロスが最小のマルチゾーンヒータ 2024年 7月24日
特表 2024-527376 遷移金属窒化物材料の選択的除去 2024年 7月24日
特表 2024-527377 前駆体を閉じ込めるための改良されたシャワーヘッドポンピング形状寸法 2024年 7月24日
特表 2024-527384 対称型半導体処理チャンバ 2024年 7月24日
特表 2024-526522 誘導ガス混合を有する機器前端モジュールおよびその使用方法 2024年 7月19日
特表 2024-526523 組み込まれたロードロックと共に使用可能であるファクトリインターフェースロボット 2024年 7月19日
特表 2024-526637 光学センサを用いた化学機械研磨振動測定 2024年 7月19日
特表 2024-526705 3D DRAMのためのひずみが小さいSi/SiGeヘテロエピタキシースタック 2024年 7月19日
特表 2024-526738 製造システムにおいて基板の厚さ変動をマッピングするためのシステムおよび方法 2024年 7月19日
特表 2024-526827 膜弾性率を所定の弾性率範囲内に維持するための方法、装置、およびシステム 2024年 7月19日
特開 2024-96713 高度に共線的なレスポンススペースにおける処方分析 2024年 7月17日
特開 2024-96717 パターニング応用のための高密度炭素膜 2024年 7月17日
特開 2024-96730 金属窒化物の堆積のための方法及び装置 2024年 7月17日
特表 2024-526013 プラズマ処理チャンバ内でフィーチャ帯電を低減させるための方法及び装置 2024年 7月17日
特表 2024-526051 プラズマチャンバ及びチャンバ部品の洗浄方法 2024年 7月17日

606 件中 256-270 件を表示

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2024-527349 2024-527376 2024-527377 2024-527384 2024-526522 2024-526523 2024-526637 2024-526705 2024-526738 2024-526827 2024-96713 2024-96717 2024-96730 2024-526013 2024-526051

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