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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第428位 76件 (2021年:第437位 79件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第392位 75件 (2021年:第359位 73件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7052912 | 単結晶引上げ装置 | 2022年 4月12日 | |
特許 7047803 | 単結晶引上げ装置 | 2022年 4月 5日 | |
特許 7036085 | シリコンウェーハのエッチング方法 | 2022年 3月15日 | |
特許 7028353 | シリコンウェーハの製造方法 | 2022年 3月 2日 | |
特許 7020286 | インゴットの切断方法及びワイヤーソー | 2022年 2月16日 | |
特許 7020437 | シリコン単結晶の製造方法 | 2022年 2月16日 | |
特許 7020454 | ワークの切断方法及びワイヤソー | 2022年 2月16日 | |
特許 7020507 | 半導体ウェーハの洗浄方法 | 2022年 2月16日 | |
特許 7006517 | シリコン単結晶基板中の欠陥密度の制御方法 | 2022年 1月24日 | |
特許 7003942 | ウェーハの評価方法 | 2022年 1月21日 | |
特許 7004221 | シリコンウェーハのエッチング方法、エッチング装置及び不純物分析方法 | 2022年 1月21日 | |
特許 6996425 | 原料結晶棒の固定方法、半導体単結晶の製造方法及び原料結晶棒用包装材 | 2022年 1月17日 | |
特許 6996475 | ウェーハ収納容器の洗浄方法およびその洗浄装置 | 2022年 1月17日 | |
特許 6996477 | 単結晶の製造方法 | 2022年 1月17日 | |
特許 6988761 | 半導体シリコンウェーハの洗浄処理装置および洗浄方法 | 2022年 1月 5日 |
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7052912 7047803 7036085 7028353 7020286 7020437 7020454 7020507 7006517 7003942 7004221 6996425 6996475 6996477 6988761
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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