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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件 (2023年:第31位 722件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件 (2023年:第32位 762件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-134515 | プラズマ処理装置 | 2024年10月 3日 | |
特開 2024-133658 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2024年10月 2日 | |
特表 2024-535798 | EUVレジストのハイブリッド現像 | 2024年10月 2日 | |
特開 2024-132907 | 基板支持器及び基板処理装置 | 2024年10月 1日 | |
特開 2024-133133 | 基板処理システム及び収納モジュール | 2024年10月 1日 | |
特開 2024-133281 | 搬送装置 | 2024年10月 1日 | |
特開 2024-133307 | エッチング方法 | 2024年10月 1日 | |
特開 2024-133317 | 基板の下面に対するガス整流部材 | 2024年10月 1日 | |
特開 2024-129883 | セットアップ方法、基板処理方法、及び基板処理装置 | 2024年 9月30日 | |
特開 2024-130337 | 基板搬送方法及び基板搬送装置 | 2024年 9月30日 | |
特開 2024-130804 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2024年 9月30日 | |
特開 2024-131462 | 炭素膜形成方法及び炭素膜形成装置 | 2024年 9月30日 | |
特開 2024-131906 | 着火制御方法、成膜方法及び基板処理装置 | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535334 | 高解像度の潜像加工、コントラスト増強及び熱現像、加工のための装置 | 2024年 9月30日 | |
特開 2024-129271 | 基板処理装置 | 2024年 9月27日 |
730 件中 151-165 件を表示
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2024-134515 2024-133658 2024-535798 2024-132907 2024-133133 2024-133281 2024-133307 2024-133317 2024-129883 2024-130337 2024-130804 2024-131462 2024-131906 2024-535334 2024-129271
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