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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第435位 71件 (2023年:第512位 61件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第402位 73件 (2023年:第372位 84件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7574841 | シリコンウェーハの洗浄方法、シリコンウェーハの製造方法、及びシリコンウェーハ | 2024年10月29日 | |
特許 7571612 | 加工条件設定装置、加工条件設定方法、及びウェーハの製造システム | 2024年10月23日 | |
特許 7569541 | 外観検査装置 | 2024年10月18日 | |
特許 7567761 | ウェーハ支持ボート、横型熱処理炉、ウェーハの熱処理方法、及び貼り合わせウェーハの製造方法 | 2024年10月16日 | |
特許 7567773 | エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2024年10月16日 | |
特許 7567929 | シリコン単結晶の製造方法 | 2024年10月16日 | |
特許 7562994 | ウェーハ外周部の研磨装置 | 2024年10月 8日 | |
特許 7563329 | 半導体ウェーハの洗浄方法及び半導体ウェーハの製造方法 | 2024年10月 8日 | |
特許 7559882 | 半導体ウェーハ | 2024年10月 2日 | |
特許 7556328 | 半導体ウェーハの洗浄装置、半導体ウェーハの洗浄方法およびシリコンウェーハの製造方法 | 2024年 9月26日 | |
特許 7556426 | シリコンウェーハの洗浄方法、シリコンウェーハの製造方法、及びシリコンウェーハ | 2024年 9月26日 | |
特許 7552498 | 誘導加熱コイル及びこれを用いた単結晶製造装置及び単結晶の製造方法 | 2024年 9月18日 | |
特許 7552532 | シリコン単結晶製造装置 | 2024年 9月18日 | |
特許 7543900 | 縦型熱処理炉用熱処理ボートおよび半導体ウェーハの熱処理方法 | 2024年 9月 3日 | |
特許 7543977 | 研磨条件決定用相関関係式の作成方法、研磨条件の決定方法および半導体ウェーハの製造方法 | 2024年 9月 3日 |
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7574841 7571612 7569541 7567761 7567773 7567929 7562994 7563329 7559882 7556328 7556426 7552498 7552532 7543900 7543977
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