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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2020年8月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6051788 | プラズマ処理装置及びプラズマ発生装置 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6051858 | 基板処理装置 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6051919 | 液処理装置 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6053656 | 液処理装置 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6053881 | プラズマ処理装置 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6054049 | めっき処理方法、めっき処理システムおよび記憶媒体 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6054213 | 支持部材及び半導体製造装置 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6054279 | 金属配線層形成方法、金属配線層形成装置および記憶媒体 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6054343 | 基板洗浄装置、基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6054695 | 成膜装置 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6054856 | 絶縁領域の形成方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6055387 | 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び接合システム | 2016年12月27日 | |
| 特許 6055537 | プラズマ処理方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6055783 | 基板載置台及びプラズマ処理装置 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6046974 | パターン形成方法 | 2016年12月21日 |
572 件中 1-15 件を表示
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6051788 6051858 6051919 6053656 6053881 6054049 6054213 6054279 6054343 6054695 6054856 6055387 6055537 6055783 6046974
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