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東京エレクトロン株式会社

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  2016年 出願公開件数ランキング    第61位 616件 下降2015年:第56位 677件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第49位 561件 上昇2015年:第51位 433件)

(ランキング更新日:2020年4月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6051788 プラズマ処理装置及びプラズマ発生装置 2016年12月27日
特許 6051858 基板処理装置 2016年12月27日
特許 6051919 液処理装置 2016年12月27日
特許 6053656 液処理装置 2016年12月27日
特許 6053881 プラズマ処理装置 2016年12月27日
特許 6054049 めっき処理方法、めっき処理システムおよび記憶媒体 2016年12月27日
特許 6054213 支持部材及び半導体製造装置 2016年12月27日
特許 6054279 金属配線層形成方法、金属配線層形成装置および記憶媒体 2016年12月27日
特許 6054343 基板洗浄装置、基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 2016年12月27日
特許 6054695 成膜装置 2016年12月27日
特許 6054856 絶縁領域の形成方法 2016年12月27日
特許 6055387 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び接合システム 2016年12月27日
特許 6055537 プラズマ処理方法 2016年12月27日
特許 6055783 基板載置台及びプラズマ処理装置 2016年12月27日
特許 6046974 パターン形成方法 2016年12月21日

572 件中 1-15 件を表示

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6051788 6051858 6051919 6053656 6053881 6054049 6054213 6054279 6054343 6054695 6054856 6055387 6055537 6055783 6046974

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